晶圆封装等离子清洗机报价：诚峰智造

全自动On-Line式AP等离子处理系统CRF-APO-500W-XN

名称（Name）

全自动On-Line式AP等离子处理系统

型号（Model）

CRF-APO-500W-XN

电源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz

等离子功率（Plasma power）

10KW（Max）/40KHz（Option）

**处理宽幅（Processing width）

120mm-1200mm（Option）

**处理高度（Processing　 height）

3mm~8mm（Max）

处理速度（Processing speed）

0-8m/min

工作气体（Gas）

N2/N2+CDA

产品特点： 内置式冷却系统，提高和保证设备的使用寿命和性能；

灵活On-Line安装方式，电子和离子的能量可达10eV以上，

材料批处理的效率可高于低气压辉光放电装置效率10倍以上。

应用范围：应用于FPC＆PCB表面处理，复合型材料，玻璃，ITO等行业领域的表面处理。

晶圆封装等离子清洗机报价

采用低温等离子体(非平衡等离子体)作为能量来源，将工件置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电(或另加加热体)将工件加热至预定温度，然后将其通入适量反应气体中，再通过一系列化学反应和等离子体反应，在工件表面形成固体薄膜。包含了化学气相沉积和辉光放电强化等通用技术。

粒子之间的碰撞，会产生强烈的气体离子化，从而**反应气体。阴极溅射作用同时发生，为沉积薄膜提供了一个具有良好活性的清洁表面。因此，整个沉积过程与仅热活化过程有明显的区别。二者的相互作用，为提高涂层的结合力、降低沉积温度、加快反应速度创造了有利条件。

根据等离子体量源的类型，等离子体化学气相沉积技术分为直流辉光放电、射频放电和微波等离子体放电。当CVD反应频率增加时，等离子体对CVD反应的增强作用越明显，化合物形成的温度降低。

PCVD工艺装置包括沉积室，反应物输送系统，放电电源，真空系统和检测系统。气源用气体净化器去除水份和其他杂质，通过调节装置获得所需的流量，然后与气源同时送入沉积室，在一定温度和等离子体活化等条件下，得到所需的产品，并沉积在工件或基片表面。因此，PCVD的生产过程包含了等离子体物理过程和等离子体化学反应过程。
以上便是诚峰智造低温等离子体技术厂家带来的介绍，希望能帮到您。