高纯氢氧化铪是铪化合物的重要前驱体，其纯度直接影响下游产品的性能。制备过程中需通过多级除杂工艺（如化学沉淀、膜分离、电化学法）去除铁、铝、硅等杂质，以满足电子陶瓷、航空航天、光学材料核工业等领域对材料纯度的严苛要求。
诚达过滤TC30-14X高纯氢氧化铪洗涤纯化设备利用无机微孔陶瓷膜的孔径截留效应，截留氢氧化铪的同时，分离透过杂质离子，通过不断循环洗涤，使得氢氧化铪的纯度逐渐升高。膜系统在线再生操作，自动化程度高，操作简单，已广泛应用于氢氧化铪、氢氧化锆、钛酸钡、氮化硅等纳米粉体的洗涤纯化。
设备应用优势：
1、分离精度高，1-1000纳米，**截留超细粉体，透过液澄清透明；
2、清洗***，无溶出物，可制备纯度极高的超细粉体；
3、透过水澄清透明，不含杂质，无污染，可回用；
4、洗涤过程工艺参数可控，有助于提高粉体的分散性；
5、设备主体采用卫生级不锈钢材料制造，设备操作、维护简单；
6、控制可根据用户需求配置手动、半自动、PLC全自动控制等
7、洗涤用水可RO膜进一步处理，透过水返回洗涤工序，降低水耗成本。
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