大日本科研DNK胶片用曝光机
深圳市京都玉崎电子有限公司
京都玉崎：陈永康
玉崎热线：13717018123 QQ:2853007784
0755-28578111-605
大日本科研DNK产品如下：
MA-6131ML
FPD曝光装置
G1/G3基板用近接曝光装置MA-5501ML、MA-5701ML
G3/G5基板用直立型近接曝光装置MA-6701ML、MA-6801ML、MA-6131ML
超大型PDP用直立型近接曝光装置
化合物半导体用曝光装置
实验·研究用曝光装置MA-1200、MA-1400
胶片用曝光装置
微系统（mems）用曝光装置
有机电子EL（发光）基板用封止装置
无掩膜曝光装置MX-1101、MX-1201、MX-1301E、MX-1702

大日本科研DNK曝光机MA-5501ML
京都玉崎：陈永康
玉崎热线：13717018123
融合机械和电子的「机电一体化」技术很早已应用于众多装置,本公司在此基础上,着眼于「光」领域与机电一体化的研发,确立了「光机电一体化」技术。我们坚信,此技术今后一定会应用于所有领域,也必将融汇于信息化社会发展的全过程。
　本公司光学技术特征
利用大型镜面光学系统形成的平行光大面积照射
利用的独自的光学设计形成的光学系统配置
利用独自的镜面光学系统形成的高照度均一照射
为了实现这些功能特征,我们努力研究和开发了

高功率超高压水银灯（可对应双灯方式）
自行设计制造（已取得专利）的复眼透镜
高反射率光学镜

这些先进,技术,使大面积照射?均匀照射?高照度成为可能,提高了曝光转印精度。

G1～G4.5基板用プロキシミティ露光装置

主な特長
タクトタイム約20秒(標準仕様機で、オートアライメント許容値0.5μmに設定の場合。露光時間は除く)のハイスピード露光処理が可能。
直読式ギャップセンサーと独自の制御システムにより、マスクと基板の間のプロキシミティギャップを高速?高精度に設定可能。
処理部の温度を厳しくコントロールする環境チャンバーを準備。また、熱による基板の伸縮を防止するステージ温調システムも採用可能。
マスクやガラス基板の温度差による伸縮を防止するために、基板ステージ温度コントロールやマスク冷却システムを選択可能。(オプション)
5枚のマスクを収納できるマスクライブラリを搭載可能。



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