Plasma Sources 等离子体源系列
法国SAIREM公司是拥有40多年的微波和射频工程经验的高科技公司，可为用户定制电子设计、应用开发、工艺设计和生产标准化的微波、射频、直流发生器、等离子体源等相关产品。
微波技术在等离子体实验室和工业中不断发现新的应用，这是由于微波等离子体的许多优点，例如，同轴ECR等离子体源微波头
，超密度等离子体-离子和活性物种，电极更少，在各种压力下的操作。微波辅助等离子体在金刚石沉积、表面活化、**、纳米材料合成、气体净化等方面的应用。
为了满足这些复杂技术所要求的越来越苛刻的要求，我们已经开发出了自己的等离子体源和反应器。
我们可以提供关于选择等离子设备和适合你需要的微波频率的建议，还可根据要求提供特殊配置，并且乐于帮助开发您自己应用的设备。
主要应用领域：
分析
金刚石沉积
表面清洗
蚀刻
防止污染
化学合成
(301)Downstream 等离子体源
这种表面波的等离子体源产生等离子体，在一个标准的WR340波导中（直径20-60毫米）。这种等离子体源可以根据压力、微波功率和等离子气体的性质，使长等离子体的点火和维持。
压力范围：10-2mbar到大气压力
气体类型：Ar，N2，O2，空气，……
大功率：6kW
应用类型：自由基/反应性物种的产生，表面**，PECVD，气体减排，气化，**（UV），纳米粒子合成
(302)Sur-fa-guide 等离子体源
压力范围：mbar到atm
主要用于：气体减排、气化、**、纳米粉合成、表面活化、大气高温化学
(303)AURA W-A-V-E 同轴ECR等离子体源（低压等离子体）
KF/CF法兰，氟橡胶密封圈/无氧铜密封圈，搭配固态微波发生器，同轴ECR等离子体源微波头
，可组成阵列
(304)HI- W-A-V-E 同轴碰撞型等离子体源（中压等离子体）
KF/CF法兰，氟橡胶密封圈/无氧铜密封圈，搭配固态微波发生器，欣源科技（北京）有限公司,同轴ECR等离子体源微波头
,欣源科技（北京）,可组成阵列
(305)S- W-A-V-E等离子体源（Sur-face　W-A-V-E plasma source 表面波等离子体源，搭配固态微波发生器），主要特点：
频率2450MHz±50MHz
大微波功率200W
集成到DBD点火系统（Dielectric Barrier Discharge介质阻挡放电点火系统）
压力范围10-2mbar到大气压
Ar和基于Ar基混合物可在1atm下使用
所有气体都可在更低压力下使用
直径6或8毫米的电介质管
Swagelok 6mm气体连接器
主要应用领域：表面活化、元素分析、原子层沉积、气体减排、分子**/物质活化、****、减少**附着、慢性伤口和受感染皮肤的治疗
欣源科技SYNERCE代理法国SAIREM产品系列，包括：
微波发生器(微波电源)2.45GHz系列、微波发生器(微波电源)915MHz系列、等离子体源(Plasma Sources、微波头)、微波化学系列MW Chemistry、射频发生器(RF发生器、射频电源)、用于等离子体的直流电源DC系列、微波等离子体专用水冷机系列

.欣源科技（北京）///同轴ECR等离子体源微波头

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